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ロゴ試作産業機械 CNC を研磨

ロゴ試作産業機械 CNC を研磨

ロゴ試作材料: ステンレス鋼加工法: CNC 機械加工表面処理: Min.Order 数量: 1 枚のリードの研磨時間: 7-15 営業日支払い条件のまわり: TT、ペイパル、LC、CMP 技術の概念が初めて他のご利用条件1965.The にモンサント社によって提案された.

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制品の詳細

ロゴ試作


素材: ステンレス スチール
加工法: CNC 機械加工
表面処理: 研磨
Min.Order 数量: 1 個
所要時間: 7-15 営業日中
支払条件: TT、ペイパル、液晶、その他のご利用条件


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CMP 技術の概念を最初に提案した技術 1965.The でモンサント社によって軍用望遠鏡などの高品質ガラス表面を取得に使用しました。1988 年に IBM は、4MDRAM の製造に CMP 技術を使用し始めたし、CMP 技術が世界中に急速に発達した以来、IBM は、1991 年に 64MDRAM の生産で CMP を正常に適用します。伝統的な純粋な機械的又は化学的研磨メソッドから、表面研磨速度の純粋な化学研磨によって研磨加工のみによって引き起こさ表面損傷を避けるために、化学的・機械的要因による CMP の違い粗さと貧しい一貫性を研磨します。摩耗、表面研磨の高品質を達成するために柔らかい材料で研磨することができますに"ソフト"粉砕の原理を利用しています。


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3 次元 QC の検査としてマシンの下:


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